尼康推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机

9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1”，预计 2024 年夏季上市。

尼康指出，随着电动汽车、高速通信和各种 IT 设备的普及，支持这些应用的半导体需求呈指数级增长。这些半导体必须执行各种具有挑战性的功能，因此，设备制造商需要专门的基板和曝光系统来制造这些芯片。

除了扩展各种功能选项以满足客户多样化的需求外，这款新开发的 i-line 光刻机还将支持长期的设备生产。

据介绍，NSR-2205iL1 可通过多点自动对焦(AF)、先进的晶圆台平整技术以及宽深度焦点范围(DOF)等多种优点，在高精度晶圆测量的基础上，为各种半导体制造过程提供高生产率，并优化产量水平。此外，由于其晶圆厚度和尺寸的兼容性、高晶圆翘曲容忍度以及灵活的功能(包括但不限于支持 SiC(碳化硅)和 GaN(氮化镓)加工)，NSR-2205iL1 i-line 光刻机非常适用于各种应用场景。这款光刻机将提供卓越的性价比，同时满足芯片制造商多样化的需求。